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三酸化タングステン系無機エレクトロクロミック膜

三酸化タングステン系無機エレクトロクロミック膜は、インクジェット印刷製膜法により作製することができる。 ご存じのとおり、電子機器の急速な発展に伴い、印刷電子技術(shù)はますます學(xué)術(shù)界および産業(yè)界の焦點となっています。

詳しくは、次のURLをご覧ください。
http://tungsten-oxide.com/japanese/index.html

三酸化タングステン系無機エレクトロクロミック膜の寫真

2012年には、WO 3エレクトロクロミックフィルムのインクジェット印刷に関する報告がありました。 報告によると、科學(xué)者たちは最初にゾル - ゲル法によって調(diào)製された水和WO 3ナノ粒子をインクジェット印刷技術(shù)によってPET / ITO上に印刷し、それらを柔軟なエレクトロクロミック裝置に組み立てた。 最近、インクジェット印刷三酸化タングステンエレクトロクロミック薄膜の研究において畫期的な進歩があり、科學(xué)者達は電極のエレクトロクロミック特性に及ぼすインクジェットプロセスの構(gòu)造、形態(tài)、そして効果について議論し、そして 全固體相補型エレクトロクロミック裝置をインクジェット印刷技術(shù)によって調(diào)製した。

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